Ändra sökning
RefereraExporteraLänk till posten
Permanent länk

Direktlänk
Referera
Referensformat
  • apa
  • harvard1
  • ieee
  • modern-language-association-8th-edition
  • vancouver
  • Annat format
Fler format
Språk
  • de-DE
  • en-GB
  • en-US
  • fi-FI
  • nn-NO
  • nn-NB
  • sv-SE
  • Annat språk
Fler språk
Utmatningsformat
  • html
  • text
  • asciidoc
  • rtf
Heterogeneous integration of indium phosphide on silicon by nano-epitaxial lateral overgrowth
KTH, Skolan för informations- och kommunikationsteknik (ICT), Materialfysik, Halvledarmaterial, HMA.
KTH, Skolan för informations- och kommunikationsteknik (ICT), Materialfysik, Halvledarmaterial, HMA.
KTH, Skolan för informations- och kommunikationsteknik (ICT), Integrerade komponenter och kretsar.
KTH, Skolan för informations- och kommunikationsteknik (ICT).
Visa övriga samt affilieringar
2009 (Engelska)Ingår i: 2009 IEEE 21ST INTERNATIONAL CONFERENCE ON INDIUM PHOSPHIDE & RELATED MATERIALS (IPRM), 2009, s. 59-62Konferensbidrag, Publicerat paper (Refereegranskat)
Abstract [en]

InP on Si is grown by nano-epitaxial lateral overgrowth (nano-ELOG) on patterns consisting of net-type openings under different growth conditions. Analysis shows that net-type patterns yield large lateral growth rate and good optical quality. Different growth conditions have a substantial impact on growth rate and some effect on surface morphology, as well as on the optical quality. Optical quality is deemed to be affected partly by the amount of dislocations arising from the difference in thermal expansion coefficient between the mask and the InP layer, and partly by the layer thickness and surface morphology.

Ort, förlag, år, upplaga, sidor
2009. s. 59-62
Serie
International Conference on Indium Phosphide and Related Materials, ISSN 1092-8669
Nyckelord [en]
Epitaxial lateral overgrowth, Good optical quality, Growth conditions, Heterogeneous integration, InP, Lateral growth, Layer thickness, Optical qualities, Thermal expansion coefficients, Indium, Indium phosphide, Morphology, Semiconducting silicon compounds, Surface morphology, Thermal expansion
Nationell ämneskategori
Elektroteknik och elektronik
Identifikatorer
URN: urn:nbn:se:kth:diva-30437DOI: 10.1109/ICIPRM.2009.5012415ISI: 000270539400016Scopus ID: 2-s2.0-70349505800ISBN: 978-1-4244-3432-9 (tryckt)OAI: oai:DiVA.org:kth-30437DiVA, id: diva2:399956
Konferens
21st International Conference on Indium Phosphide and Related Materials, Newport Beach, CA, MAY 10-14, 2009
Anmärkning
QC 20110224Tillgänglig från: 2011-02-24 Skapad: 2011-02-24 Senast uppdaterad: 2011-02-24Bibliografiskt granskad

Open Access i DiVA

Fulltext saknas i DiVA

Övriga länkar

Förlagets fulltextScopus

Personposter BETA

Lourdudoss, Sebastian

Sök vidare i DiVA

Av författaren/redaktören
Junesand, CarlOlsson, FredrikXiang, YuGau, Ming-HorngLourdudoss, Sebastian
Av organisationen
Halvledarmaterial, HMAIntegrerade komponenter och kretsarSkolan för informations- och kommunikationsteknik (ICT)
Elektroteknik och elektronik

Sök vidare utanför DiVA

GoogleGoogle Scholar

doi
isbn
urn-nbn

Altmetricpoäng

doi
isbn
urn-nbn
Totalt: 188 träffar
RefereraExporteraLänk till posten
Permanent länk

Direktlänk
Referera
Referensformat
  • apa
  • harvard1
  • ieee
  • modern-language-association-8th-edition
  • vancouver
  • Annat format
Fler format
Språk
  • de-DE
  • en-GB
  • en-US
  • fi-FI
  • nn-NO
  • nn-NB
  • sv-SE
  • Annat språk
Fler språk
Utmatningsformat
  • html
  • text
  • asciidoc
  • rtf