Ändra sökning
RefereraExporteraLänk till posten
Permanent länk

Direktlänk
Referera
Referensformat
  • apa
  • harvard1
  • ieee
  • modern-language-association-8th-edition
  • vancouver
  • Annat format
Fler format
Språk
  • de-DE
  • en-GB
  • en-US
  • fi-FI
  • nn-NO
  • nn-NB
  • sv-SE
  • Annat språk
Fler språk
Utmatningsformat
  • html
  • text
  • asciidoc
  • rtf
The effect of oxygen partial pressure during deposition in the magnetic properties of ZnO thin film
KTH, Skolan för industriell teknik och management (ITM), Materialvetenskap, Teknisk materialfysik.
KTH, Skolan för industriell teknik och management (ITM), Materialvetenskap, Teknisk materialfysik.
KTH, Skolan för industriell teknik och management (ITM), Materialvetenskap, Teknisk materialfysik.
KTH, Skolan för industriell teknik och management (ITM), Materialvetenskap, Teknisk materialfysik.ORCID-id: 0000-0003-4889-4210
Visa övriga samt affilieringar
2011 (Engelska)Ingår i: Mater Res Soc Symp Proc, 2011, s. 117-122Konferensbidrag, Publicerat paper (Refereegranskat)
Abstract [en]

We have studied the magnetic properties of 100 nm thick ZnO thin films prepared by magnetron sputtering in different oxygen partial pressures (ratio of oxygen pressure to total pressure in deposition chamber, P Oxy). Only the films fabricated at P Oxy below ∼ 0.5 show room temperature ferromagnetism. The saturation magnetization at room temperature is initially found to increase as P Oxy increases and reaches maximum value of ∼ 5 emu/gm at P Oxy ∼ 0.3 and then starts to decrease and becomes diamagnetic for P Oxy > 0.5. From small angle XRD study of structural properties of the films, we find that the lattice stress developed in the film along c-axis also exhibits a similar behavior with the variation of P Oxy. Thus, both the room temperature ferromagnetism and lattice stress appear to originate from the intrinsic defects present in the sample.

Ort, förlag, år, upplaga, sidor
2011. s. 117-122
Serie
Materials Research Society Symposium Proceedings, ISSN 0272-9172 ; 1292
Nyckelord [en]
Deposition chambers, Effect of oxygen, Intrinsic defects, Lattice stress, Maximum values, Oxygen partial pressure, Oxygen pressure, Room temperature, Room temperature ferromagnetism, Total pressure, XRD studies, ZnO thin film, Deposition, Ferromagnetism, Magnetic properties, Metallic films, Optical films, Oxide films, Oxygen, Partial pressure, Pressure effects, Saturation magnetization, Thin films, Vapor deposition, Zinc oxide, Magnetic thick films
Nationell ämneskategori
Materialteknik Annan fysik
Identifikatorer
URN: urn:nbn:se:kth:diva-150741DOI: 10.1557/opl.2011.22Scopus ID: 2-s2.0-80053191847ISBN: 9781605112695 (tryckt)OAI: oai:DiVA.org:kth-150741DiVA, id: diva2:745755
Konferens
2010 MRS Fall Meeting, 29 November 2010 through 3 December 2010, Boston, MA
Anmärkning

QC 20140911

Tillgänglig från: 2014-09-11 Skapad: 2014-09-09 Senast uppdaterad: 2016-12-23Bibliografiskt granskad

Open Access i DiVA

Fulltext saknas i DiVA

Övriga länkar

Förlagets fulltextScopus

Personposter BETA

Belova, Liubov

Sök vidare i DiVA

Av författaren/redaktören
Biswas, AnisShirong, WangNagar, SandeepBelova, LiubovRao, K. Venkat
Av organisationen
Teknisk materialfysik
MaterialteknikAnnan fysik

Sök vidare utanför DiVA

GoogleGoogle Scholar

doi
isbn
urn-nbn

Altmetricpoäng

doi
isbn
urn-nbn
Totalt: 186 träffar
RefereraExporteraLänk till posten
Permanent länk

Direktlänk
Referera
Referensformat
  • apa
  • harvard1
  • ieee
  • modern-language-association-8th-edition
  • vancouver
  • Annat format
Fler format
Språk
  • de-DE
  • en-GB
  • en-US
  • fi-FI
  • nn-NO
  • nn-NB
  • sv-SE
  • Annat språk
Fler språk
Utmatningsformat
  • html
  • text
  • asciidoc
  • rtf