Ändra sökning
RefereraExporteraLänk till posten
Permanent länk

Direktlänk
Referera
Referensformat
  • apa
  • ieee
  • modern-language-association-8th-edition
  • vancouver
  • Annat format
Fler format
Språk
  • de-DE
  • en-GB
  • en-US
  • fi-FI
  • nn-NO
  • nn-NB
  • sv-SE
  • Annat språk
Fler språk
Utmatningsformat
  • html
  • text
  • asciidoc
  • rtf
Comparison of total losses of 1.2 kV SiC JFET and BJT in DC-DC converter including gate driver
KTH, Skolan för elektro- och systemteknik (EES), Elektriska maskiner och effektelektronik (stängd 20110930).ORCID-id: 0000-0002-9850-9440
KTH, Skolan för elektro- och systemteknik (EES), Elektriska maskiner och effektelektronik (stängd 20110930).ORCID-id: 0000-0001-7922-3407
KTH, Skolan för elektro- och systemteknik (EES), Elektriska maskiner och effektelektronik (stängd 20110930).
KTH, Skolan för elektro- och systemteknik (EES), Elektriska maskiner och effektelektronik (stängd 20110930).
Visa övriga samt affilieringar
2011 (Engelska)Ingår i: Materials Science Forum, ISSN 0255-5476, E-ISSN 1662-9752, Vol. 679/680, s. 649-652Artikel i tidskrift (Refereegranskat) Published
Abstract [en]

The 1.2 kV SiC JFET and BJT devices have been investigated and compared with respect to total losses including the gate driver losses in a DC-DC converter configuration. The buried grid, Normally-on JFET devices with threshold voltage of -50 V and -10V are compared to BJT devices with ideal semiconductor and passivating insulator interface and an interface with surface recombination velocity of 4.5·104 cm/s yielding agreement to the reported experimental current gain values. The conduction losses of both types of devices are independent of the switching frequency while the switching losses are proportional to the switching frequency. The driver losses are proportional to the switching frequency in the JFET case but to a large extent independent of the switching frequency in the BJT case. The passivation of the emitter junction modeled here by surface recombination velocity has a significant impact on conduction losses and gate driver losses in the investigated BJT devices.

Ort, förlag, år, upplaga, sidor
2011. Vol. 679/680, s. 649-652
Nyckelord [en]
unction Field Effect Transistors (JFETs), Bipolar Junction Transistors (BJT)
Nationell ämneskategori
Elektroteknik och elektronik
Forskningsämne
SRA - Energi
Identifikatorer
URN: urn:nbn:se:kth:diva-40815DOI: 10.4028/www.scientific.net/MSF.679-680.649ISI: 000291673500156Scopus ID: 2-s2.0-79955079825OAI: oai:DiVA.org:kth-40815DiVA, id: diva2:442246
Konferens
8th European Conference on Silicon Carbide and Related Materials. Sundvolden Conf Ctr, Oslo, NORWAY. AUG 29-SEP 02, 2010
Forskningsfinansiär
StandUp
Anmärkning

QC 20111020

Tillgänglig från: 2011-09-20 Skapad: 2011-09-20 Senast uppdaterad: 2017-12-08Bibliografiskt granskad
Ingår i avhandling
1. Simulation and Electrical Evaluation of 4H-SiC Junction Field Effect Transistors and Junction Barrier Schottky Diodes with Buried Grids
Öppna denna publikation i ny flik eller fönster >>Simulation and Electrical Evaluation of 4H-SiC Junction Field Effect Transistors and Junction Barrier Schottky Diodes with Buried Grids
2015 (Engelska)Doktorsavhandling, sammanläggning (Övrigt vetenskapligt)
Abstract [en]

Silicon carbide (SiC) has higher breakdown field strength than silicon (Si), which enables thinner and more highly doped drift layers compared to Si. Consequently, the power losses can be reduced compared to Si-based power conversion systems. Moreover, SiC allows the power conversion systems to operate at high temperatures up to 250 oC. With such expectations, SiC is considered as the material of choice for modern power semiconductor devices for high efficiencies, high temperatures, and high power densities. Besides the material benefits, the typeof the power device also plays an important role in determining the system performance.

Compared to the SiC metal-oxide semiconductor field-effect transistor (MOSFET) and bipolar junction transistor (BJT), the SiC junction field-effect transistor (JFET) is a very promising power switch, being a voltage-controlled device without oxide reliability issues. Its channel iscontrolled by a p-n junction. However, the present JFETs are not optimized yet with regard to on-state resistance, controllability of threshold voltage, and Miller capacitance.

In this thesis, the state-of-the-art SiC JFETs are introduced with buried-grid (BG) technology.The buried grid is formed in the channel through epitaxial growth and etching processes. Through simulation studies, the new concepts of normally-on and -off BG JFETs with 1200 V blocking capability are investigated in terms of static and dynamic characteristics. Additionally, two case studies are performed in order to evaluate total losses on the system level. These investigations can be provided to a power circuit designer for fully exploiting the benefit of power devices. Additionally, they can serve as accurate device models and guidelines considering the switching performance.

The BG concept utilized for JFETs has been also used for further development of SiC junctionbarrier Schottky (JBS) diodes. Especially, this design concept gives a great impact on high temperature operation due to efficient shielding of the Schottky interface from high electric fields. By means of simulations, the device structures with implanted and epitaxial p-grid formations, respectively, are compared regarding threshold voltage, blocking voltage, and maximum electric field at the Schottky interface. The results show that the device with an epitaxial grid can be more efficient at high temperatures than that with an implanted grid. To realize this concept, the device with implanted grid was optimized using simulations, fabricated and verified through experiments. The BG JBS diode clearly shows that the leakage current is four orders of magnitude lower than that of a pure Schottky diode at an operation temperature of 175 oC and 2 to 3 orders of magnitude lower than that of commercial JBS diodes.

Finally, commercialized vertical trench JFETs are evaluated both in simulations andexperiments, while it is important to determine the limits of the existing JFETs and study their performance in parallel operation. Especially, the influence of uncertain parameters of the devices and the circuit configuration on the switching performance are determined through simulations and experiments.

Abstract [sv]

Kiselkarbid (SiC) har en högre genombrottsfältstyrka än kisel, vilket möjliggör tunnare och mer högdopade driftområden jämfört med kisel. Följaktligen kan förlusterna reduceras jämfört med kiselbaserade omvandlarsystem. Dessutom tillåter SiC drift vid temperatures upp till 250 oC. Dessa utsikter gör att SiC anses vara halvledarmaterialet för moderna effekthalvledarkomponenter för hög verkningsgrad, hög temperature och hög kompakthet. Förutom materialegenskaperna är också komponenttypen avgörande för att bestämma systemets prestanda.

Jämfört med SiC MOSFETen och bipolärtransistorn i SiC är SiC JFETen en mycket lovande component, eftersom den är spänningsstyrd och saknar tillförlitlighetsproblem med oxidskikt. Dess kanal styrs an en PNövergång. Emellertid är dagens JFETar inte optimerade med hänseende till on-state resistans, styrbarhet av tröskelspänning och Miller-kapacitans.

I denna avhandling introduceras state-of-the-art SiC JFETar med buried-grid (BG) teknologi. Denna åstadkommes genom epitaxi och etsningsprocesser. Medelst simulering undersöks nya concept för normally-on och normally-off BG JFETar med blockspänningen 1200 V. Såvä statiska som dynamiska egenskper undersöks. Dessutom görs två fallstudier vad avser totalförluster på systemnivå. Dessa undersökningar kan vara värdefulla för en konstruktör för att till fullo utnyttja fördelarna av komponenterna. Dessutom kan resultaten från undersökningarna användas som komponentmodeller och anvisningar vad gäller switch-egenskaper.

BG konceptet som använts för JFETar har också använts för vidareutveckling av så kallade JBS-dioder. Speciellt ger denna konstruktion stora fördelar vid höga temperature genom en effektiv skärmning av Schottkyövergången mot höga elektriska fält. Genom simuleringar har komponentstrukturer med implanterade och epitaxiella grids jämförst med hänseende till tröskelspänning, genombrottspänning och maximalt elektriskt fält vid Schottky-övergången. Resultaten visar att den epitaxiella varianten kan vara mer effektiv än den implanterade vid höga temperaturer. För att realisera detta concept optimerades en komponent med implanterat grid med hjälp av simuleringar. Denna component tillverkades sedan och verifierades genom experiment. BG JBS-dioden visar tydligt att läckströmmen är fyra storleksordningar lägre än för en ren Schottky-diod vid 175 oC, och två till tre storleksordningar lägre än för kommersiella JBS-dioder.

Slutligen utvärderas kommersiella vertical trench-JFETar bade genom simuleringar och experiment, eftersom det är viktigt att bestämma gränserna för existerande JFETar och studera parallelkoppling. Speciellt studeras inverkan av obestämda parametrar och kretsens konfigurering på switchegenskaperna. Arbetet utförs bade genom simuleringar och experiment.

Ort, förlag, år, upplaga, sidor
Stockholm: KTH Royal Institute of Technology, 2015. s. xvi, 97
Serie
TRITA-EE, ISSN 1653-5146 ; 2015:025
Nyckelord
Silicon carbide (SiC), junction field-effect transistors (JFETs), junction barrier schottky diode (JBS), schottky barrier diode (SBD), buried-grid (BG) technology, simulation, implantation, epitaxial growth
Nationell ämneskategori
Elektroteknik och elektronik
Forskningsämne
Elektro- och systemteknik
Identifikatorer
urn:nbn:se:kth:diva-173340 (URN)978-91-7595-684-8 (ISBN)
Disputation
2015-10-12, Kollegiesalen, Brinellvägen 8, KTH, Stockholm, 10:15 (Engelska)
Opponent
Handledare
Anmärkning

QC 20150915

Tillgänglig från: 2015-09-15 Skapad: 2015-09-09 Senast uppdaterad: 2020-01-22Bibliografiskt granskad

Open Access i DiVA

Fulltext saknas i DiVA

Övriga länkar

Förlagets fulltextScopus

Personposter BETA

Lim, Jang-KwonTolstoy, GeorgNee, Hans-Peter

Sök vidare i DiVA

Av författaren/redaktören
Lim, Jang-KwonTolstoy, GeorgPeftitsis, DimosthenisRabkowski, JacekNee, Hans-Peter
Av organisationen
Elektriska maskiner och effektelektronik (stängd 20110930)
I samma tidskrift
Materials Science Forum
Elektroteknik och elektronik

Sök vidare utanför DiVA

GoogleGoogle Scholar

doi
urn-nbn

Altmetricpoäng

doi
urn-nbn
Totalt: 216 träffar
RefereraExporteraLänk till posten
Permanent länk

Direktlänk
Referera
Referensformat
  • apa
  • ieee
  • modern-language-association-8th-edition
  • vancouver
  • Annat format
Fler format
Språk
  • de-DE
  • en-GB
  • en-US
  • fi-FI
  • nn-NO
  • nn-NB
  • sv-SE
  • Annat språk
Fler språk
Utmatningsformat
  • html
  • text
  • asciidoc
  • rtf