Ändra sökning
RefereraExporteraLänk till posten
Permanent länk

Direktlänk
Referera
Referensformat
  • apa
  • ieee
  • modern-language-association-8th-edition
  • vancouver
  • Annat format
Fler format
Språk
  • de-DE
  • en-GB
  • en-US
  • fi-FI
  • nn-NO
  • nn-NB
  • sv-SE
  • Annat språk
Fler språk
Utmatningsformat
  • html
  • text
  • asciidoc
  • rtf
Towards 10-nm Soft X-Ray Zone Plate Fabrication
KTH, Skolan för teknikvetenskap (SCI), Tillämpad fysik, Biomedicinsk fysik och röntgenfysik.
KTH, Skolan för teknikvetenskap (SCI), Tillämpad fysik, Biomedicinsk fysik och röntgenfysik.
KTH, Skolan för teknikvetenskap (SCI), Tillämpad fysik, Biomedicinsk fysik och röntgenfysik.
KTH, Skolan för teknikvetenskap (SCI), Tillämpad fysik, Biomedicinsk fysik och röntgenfysik.
Visa övriga samt affilieringar
2011 (Engelska)Konferensbidrag, Publicerat paper (Refereegranskat)
Abstract [en]

In this paper the latest efforts to improve our nanofabrication process for soft x‐ray zone plates is presented. The resolving power, which is proportional to the smallest outermost zone width of the zone plate, is increased by introducing cold development of the electron beam resist that is used for the patterning. With this process we have fabricated Ni zone plates with 13‐nm outermost zone and shown potential for making 11‐nm half‐pitch lines in the electron beam resist. Maintaining the diffraction efficiency of the zone plate is a great concern when the outermost zone width is decreased. To resolve this problem we have developed the so‐called Ni‐Ge zone plate in which the zone plate is build up by Ni and Ge, resulting in an increase of the diffraction efficiency. In a proof‐of‐principle experiment with 25‐nm Ni‐Ge zone plates, we have shown a doubling of the diffraction efficiency. When combined with cold development, the Ni‐Ge process has been shown to work down to 16‐nm half‐pitch. It is plausible that further refinement of the process will make it possible to go to 10‐nm outermost zone widths.

Ort, förlag, år, upplaga, sidor
2011. Vol. 1365, s. 18-23
Serie
AIP Conference Proceedings, ISSN 0094-243X ; 1365
Nyckelord [en]
electron beam lithography; X-ray diffraction; electroplating; zone plates; nanotechnology
Nationell ämneskategori
Atom- och molekylfysik och optik
Identifikatorer
URN: urn:nbn:se:kth:diva-73361DOI: 10.1063/1.3625295ISI: 000298672400002Scopus ID: 2-s2.0-80053299081OAI: oai:DiVA.org:kth-73361DiVA, id: diva2:488820
Konferens
10th International Conference on X-ray Microscopy
Anmärkning
QC 20120206Tillgänglig från: 2012-02-02 Skapad: 2012-02-02 Senast uppdaterad: 2014-01-14Bibliografiskt granskad

Open Access i DiVA

Fulltext saknas i DiVA

Övriga länkar

Förlagets fulltextScopushttp://link.aip.org/link/?APC/1365/18/1

Personposter BETA

Selin, MårtenLarsson, DanielLundstrom, UlfVogt, UlrichHertz, Hans

Sök vidare i DiVA

Av författaren/redaktören
Holmberg, AndersReinspach, JuliaLindblom, MagnusChubarova, ElenaBertilson, Michaelvon Hofsten, OlovNilsson, DanielSelin, MårtenLarsson, DanielSkoglund Lindberg, PeterLundstrom, UlfTakman, PerVogt, UlrichHertz, Hans
Av organisationen
Biomedicinsk fysik och röntgenfysik
Atom- och molekylfysik och optik

Sök vidare utanför DiVA

GoogleGoogle Scholar

doi
urn-nbn

Altmetricpoäng

doi
urn-nbn
Totalt: 106 träffar
RefereraExporteraLänk till posten
Permanent länk

Direktlänk
Referera
Referensformat
  • apa
  • ieee
  • modern-language-association-8th-edition
  • vancouver
  • Annat format
Fler format
Språk
  • de-DE
  • en-GB
  • en-US
  • fi-FI
  • nn-NO
  • nn-NB
  • sv-SE
  • Annat språk
Fler språk
Utmatningsformat
  • html
  • text
  • asciidoc
  • rtf