Endre søk
RefereraExporteraLink to record
Permanent link

Direct link
Referera
Referensformat
  • apa
  • ieee
  • modern-language-association-8th-edition
  • vancouver
  • Annet format
Fler format
Språk
  • de-DE
  • en-GB
  • en-US
  • fi-FI
  • nn-NO
  • nn-NB
  • sv-SE
  • Annet språk
Fler språk
Utmatningsformat
  • html
  • text
  • asciidoc
  • rtf
Confined pulsed diffuse layer charging for nanoscale electrodeposition with an STM
Laboratory for Nanometallurgy, ETH Zürich, Department of Materials, Vladimir-Prelog-Weg 1-5/10, Zürich, Switzerland.ORCID-id: 0000-0001-9980-7434
2022 (engelsk)Inngår i: Nanoscale Advances, ISSN 25160230, Vol. 4, nr 4, s. 1182-1190Artikkel i tidsskrift (Fagfellevurdert) Published
sted, utgiver, år, opplag, sider
Royal Society of Chemistry (RSC) , 2022. Vol. 4, nr 4, s. 1182-1190
HSV kategori
Identifikatorer
URN: urn:nbn:se:kth:diva-339188DOI: 10.1039/d1na00779cISI: 000747351800001PubMedID: 35308601Scopus ID: 2-s2.0-85124793939OAI: oai:DiVA.org:kth-339188DiVA, id: diva2:1809872
Merknad

QC 20231106

Tilgjengelig fra: 2023-11-06 Laget: 2023-11-06 Sist oppdatert: 2023-11-06bibliografisk kontrollert

Open Access i DiVA

Fulltekst mangler i DiVA

Andre lenker

Forlagets fulltekstPubMedScopushttps://doi.org/10.1039%2Fd1na00779c

Person

Reiser, Alain

Søk i DiVA

Av forfatter/redaktør
Reiser, Alain

Søk utenfor DiVA

GoogleGoogle Scholar

doi
pubmed
urn-nbn

Altmetric

doi
pubmed
urn-nbn
Totalt: 627 treff
RefereraExporteraLink to record
Permanent link

Direct link
Referera
Referensformat
  • apa
  • ieee
  • modern-language-association-8th-edition
  • vancouver
  • Annet format
Fler format
Språk
  • de-DE
  • en-GB
  • en-US
  • fi-FI
  • nn-NO
  • nn-NB
  • sv-SE
  • Annet språk
Fler språk
Utmatningsformat
  • html
  • text
  • asciidoc
  • rtf