kth.sePublikationer KTH
Ändra sökning
RefereraExporteraLänk till posten
Permanent länk

Direktlänk
Referera
Referensformat
  • apa
  • ieee
  • modern-language-association-8th-edition
  • vancouver
  • Annat format
Fler format
Språk
  • de-DE
  • en-GB
  • en-US
  • fi-FI
  • nn-NO
  • nn-NB
  • sv-SE
  • Annat språk
Fler språk
Utmatningsformat
  • html
  • text
  • asciidoc
  • rtf
Confined pulsed diffuse layer charging for nanoscale electrodeposition with an STM
Laboratory for Nanometallurgy, ETH Zürich, Department of Materials, Vladimir-Prelog-Weg 1-5/10, Zürich, Switzerland.ORCID-id: 0000-0001-9980-7434
2022 (Engelska)Ingår i: Nanoscale Advances, ISSN 25160230, Vol. 4, nr 4, s. 1182-1190Artikel i tidskrift (Refereegranskat) Published
Ort, förlag, år, upplaga, sidor
Royal Society of Chemistry (RSC) , 2022. Vol. 4, nr 4, s. 1182-1190
Nationell ämneskategori
Materialteknik Elektroteknik och elektronik Kemiteknik
Identifikatorer
URN: urn:nbn:se:kth:diva-339188DOI: 10.1039/d1na00779cISI: 000747351800001PubMedID: 35308601Scopus ID: 2-s2.0-85124793939OAI: oai:DiVA.org:kth-339188DiVA, id: diva2:1809872
Anmärkning

QC 20231106

Tillgänglig från: 2023-11-06 Skapad: 2023-11-06 Senast uppdaterad: 2023-11-06Bibliografiskt granskad

Open Access i DiVA

Fulltext saknas i DiVA

Övriga länkar

Förlagets fulltextPubMedScopushttps://doi.org/10.1039%2Fd1na00779c

Person

Reiser, Alain

Sök vidare i DiVA

Av författaren/redaktören
Reiser, Alain
MaterialteknikElektroteknik och elektronikKemiteknik

Sök vidare utanför DiVA

GoogleGoogle Scholar

doi
pubmed
urn-nbn

Altmetricpoäng

doi
pubmed
urn-nbn
Totalt: 632 träffar
RefereraExporteraLänk till posten
Permanent länk

Direktlänk
Referera
Referensformat
  • apa
  • ieee
  • modern-language-association-8th-edition
  • vancouver
  • Annat format
Fler format
Språk
  • de-DE
  • en-GB
  • en-US
  • fi-FI
  • nn-NO
  • nn-NB
  • sv-SE
  • Annat språk
Fler språk
Utmatningsformat
  • html
  • text
  • asciidoc
  • rtf